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  • 電鍍
  • 自催化鍍及浸漬鍍
  • 陽(yáng)極氧化與染色
  • 乾式鍍法

 

 

常見電鍍品種

  • 銅鍍層
  • 鎳鍍層
  • 鉻鍍層
  • 鋅鍍層
  • 貴金屬鍍層
  • 銅基合金鍍層
  • 鉛-錫合金鍍層
  • 槍色錫基合金鍍層
  • 自催化鍍層(化學(xué)鍍層)

常見電鍍過程

  • 銅-鎳-鉻
  • 塑膠電鍍
  • 特殊材料電鍍

電鍍常用公式及數(shù)據(jù)

公式

1.    單鍍層厚度

2.    合金鍍層厚度

3.    侯氏槽一次電流分布

4.    鍍液分散能力

1.單鍍層厚度

2.合金鍍層厚度

3.侯氏槽一次電流分布

CD=I(c1-c2 log L)

267ml、 534ml 及 1000ml 槽

·    CD 電流密度(A/ft2)

·    I 總電流 (A)

·    L 與高電流密度區(qū)邊緣的距離(in)

·    c1, c2 常數(shù)

250ml 槽

·    CD 電流密度(A/dm2)

·    I 總電流 (A)

·    L 與高電流密度區(qū)邊緣的距離(cm)

·    c1, c2 常數(shù)

常數(shù)

·    267ml及534ml槽
c1=27.7 c2=48.7

·    1000ml槽
c1=18.0 c2=28.3

·    250ml槽 c1=5.10 c2=5.24
L 介乎於0.64至8.25 cm