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離子蒸鍍基本原理

 

離子蒸鍍基本原理：

　真空環(huán)境下藉由電氣方式使蒸鍍材料蒸發(fā)，經(jīng)過(guò)輝光放電區(qū)使蒸鍍材料與通入之反應(yīng)氣體離子化，形成由帶電離子、電子．原子、分子等的電漿，此電漿作用於工件表面，工件表面與電漿中的活性原子與離子起反應(yīng)，使表面狀態(tài)發(fā)生改變而獲得被覆層。離子蒸技術(shù)將真空室中的輝光放電電漿技術(shù)及真空蒸鍍膜技術(shù)結(jié)合在一起，不僅明顯提高鍍層的各種性能且大大擴(kuò)充應(yīng)用範(fàn)圍。

(2)離子蒸鍍的特點(diǎn)：

附著力強(qiáng)─由於離子轟擊對(duì)工作表面產(chǎn)生清潔、蝕刻、加熱、注入、擴(kuò)散等作用，增強(qiáng)被覆層與工作表面的附著強(qiáng)度。
    繞附性好─蒸鍍材料在電漿區(qū)被解離為正離子，這些正離子將沿電場(chǎng)的電力線運(yùn)動(dòng)，凡是電力線分佈之處均可到達(dá)，而工作表面帶負(fù)電壓，因此工作的正面及背面都處?kù)峨妶?chǎng)之中，使得蒸鍍材料的帶電原子能到達(dá)工件的所有表面而沈積鍍層，其次氣體的散射效應(yīng)亦促使工作所有表面均能被被覆。
鍍層緻密─離子蒸鍍過(guò)程在真空條件下進(jìn)行，具有輝光放電及離子轟擊作用，因此鍍層組織緻密，針孔氣泡少。蒸鍍材料與工件材質(zhì)選擇性廣泛─離子蒸鍍可以在金屬或非金屬表面蒸鍍金屬膜、非金屬膜、單層膜、化合物膜及陶瓷膜等等。
　  真空蒸鍍、濺射及離子蒸鍍之比較

(3)工業(yè)應(yīng)用

　　物理鍍的鍍層種類(lèi)繁多，隨應(yīng)用場(chǎng)合的環(huán)境如負(fù)荷、潤(rùn)滑液、加工速度、氣氛、被加工材、受力狀況等等，去選擇適合的鍍層，各種常用鍍膜基本性質(zhì)及應(yīng)用如表2所示。圖1～4分別為物理蒸鍍應(yīng)用之各式模具及工具。